Nanofabbricazione

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La presenza di una camera bianca e di sistemi di nanolitografia, sia di tipo a ultravioletti (UV-LITHO), sia a fascio elettronico (EBL), che di tipo nanoimprint (NIL), o basate su scansione di sonda (SPM), permettono al personale del NEST di ottenere risultati che sono allo stato dell’arte nel campo della nanofabbricazione, sia nei termini del conseguimento della risoluzione finale, che in quelli della flessibilità di progettazione.

Nel seguito è possibile trovare le specifiche tecniche di alcune delle piattaforme di nanofabbricazione disponibili presso il centro.

Litografia ottica (UV-OL)

Al CCNEST sono disponibili due sistemi di litografia ottica: un mask aligner MJB3 ed un MJB4 della SUSS. E’ possibile ottenere strutture con risoluzione fino a 500 nm su aree fino a 4″.

Litografia elettronica (EBL)

Sono disponibili due sistemi di litografia elettronica installati su due SEM-FEG della ZEISS. Il primo sistema consiste in due pattern generator (Nabity System NPGS 9.0 e Elphy Plus della Raith) installati su colonna SEM GEMINI II Merlin della ZEISS. Il secondo, instllato su colonna Gemini I UltraPlus della ZESS, è un sistema MultiBeam della Raith, comprensivo di stage interferometrico per campioni fino a 2″.

Nano Imprint Lithography (NIL)

La nanoimprint lithography (NIL) disponibile al CCNEST è basata su un sistema della Obducat della serie NANO-IMPRINTER, che include la possibilità di fare hot-embossing (uso di temperatura e pressione) e nanoimprint assistita da ultravioletti (UV-NIL) fino a 2″ di substrato.

Litografia a scansione di sonda (SPM-LITHO)

Il Centro è dotato di un sistema di microscopia a scansione di sonda modello ICON della Bruker, in grado di fare imaging ad alta risoluzione e litografie basate su local anodic oxidation (LAO) o static ploughing lithography (SPL) con uno stage in grado di alloggiare campioni fino a 6″.